●溶射とは

端的にいえば、材料を溶融もしくは軟化させ、粒子として衝突堆積させ皮膜として生成させる表面処理技術の一つです。

●高速フレーム溶射の特徴

高速フレーム溶射（ＨＶＯＦ、ＨＶＡＦ）とは、炭化水素系のガスもしくは液体と酸素乃至は圧縮空気を燃料としてチャンバー内で燃焼させ、発生した高温高圧のガス流れに粉末を投入、粒子を加速過熱させ対象材に衝突堆積させて皮膜を形成する溶射法です。
フレーム溶射やプラズマ溶射と比較すると高密着力、材料変質の少なさが主な特徴です。

●ＨＶＯＦとＨＶＡＦの差異について

両者共に基本的な 概念・方向性は同じであるといえますが、燃焼材として、酸素を用いる方法をＨＶＯＦ（High Velocity Oxygen Fuel）、圧縮空気を用いる方法をＨＶＡＦ（High Velocity Air Fuel）と呼ばれています。
圧縮空気を使用することにより、ＨＶＡＦはＨＶＯＦよりも燃焼温度が５００～１０００Ｋ�程低く１６００～２０００Ｋ辺りとなります。それ故に、材料の融点以上に不必要に加熱することを抑制できるので、材料の変質を少なくすることが可能となります。

●ＨＶＡＦ使用のメリット

上で述べたように、ＨＶＯＦよりも燃焼温度が低いので、耐摩耗性を主目的としたサーメット（ＷＣ系）材料を溶射するのであれば、ＨＶＯＦでは通常発生するＷ２Ｃなどの副生成物が発生しません。
金属材料なら、燃焼温度が低いので粒子の酸化や変質をできるだけ抑えた皮膜を作製できます。

写真はＷＣ－１２Ｃｏ溶射皮膜の断面です。

●有限会社エスエスシー